Phin lọc của Mặt nạ Sorbent (Nga): UNIX 502 - UNIX 521 - UNIX 531 - DOTeco P3RD -UNIX 213 P3RD

Thương hiệu: Sorbent
175.000 đ - 305.000 đ 205.000 đ
  • Từ 20: Giảm 5% giá bán
  • Từ 30: Giảm 10% giá bán
  • Từ 50 trở lên liên hệ nhận báo giá

Phin lọc trong mặt nạ phòng độc có chức năng quan trọng trong việc lọc và làm sạch không khí trước khi đưa vào phổi, giúp người dùng tránh khỏi các tác nhân gây hại cho sức khỏe từ các hơi hóa chất, bụi, vi khuẩn khó nhìn thấy bằng mắt trong không khí. Phin lọc được thiết kế để lọc bụi, khói, hơi hóa chất độc hại, các vi khuẩn, virus và các chất gây hại khác có thể gây hại cho sức khỏe.

Phin lọc được kết hợp với mặt nạ hoặc bán mặt nạ để tạo nên phương tiện bảo vệ hô hấp lọc hơi khí độc tổng hợp hoàn chỉnh.

Thương hiệu: Sorbent (Nga)

UNIX 531 UNIX 502 UNIX 521 DOTeco P3RD UNIX 213 P3RD
Số lượng
+
Giá theo số lượng :

Bạn hãy đăng nhập để được dự báo thời gian & chi phí giao hàng một cách chính xác nhất.

0/5
0 đánh giá
62
Sản phẩm
0
Yêu thích
Cam kết chính hãng 100%
XEM SHOP
0 đánh giá
62
0
10 tháng trước

THÔNG TIN CHI TIẾT SẢN PHẨM

PHIN LỌC UNIX 502 (120A2)
- Sử dụng với bán mặt nạ UNIX hoặc mặt nạ toàn phần MAG-2 
- Khả năg :  lọc các chất độc hại dạng hơi và khí có nhiệt độ sôi trên 65 ° C không quá 50 PEL ở nhiệt độ môi trường từ -40 ° C đến + 40 ° C.
- Phin lọc  có tác dụng chống hơi độc dạng hữu cơ .
- Phin lọc đạt tiêu chuẩn châu Âu nhưng có  trở lực hô hấp rất thấp nên hít thở nhẹ nhàng ( Chỉ bằng 30% quy định tiêu chuẩn Châu Âu)


PHIN LỌC UNIX 521 (120A1B1E1)
- Sử dụng với bán mặt nạ UNIX hoặc mặt nạ toàn phần MAG-2 
- Công dụng: lọc loại hơi khí độc hữu cơ  (dung môi hữu cơ, axeton, benzene…); vô cơ ( như Cl2, H2S, HCN,HCl,...) ; SO2 và axit.
- Thời gian có tác dụng của hộp lọc :  Kết quả thử nghiệm với các hơi khí độc mẫu ( với nồng độ, lưu lượng, nhiệt độ, độ ẩm quy định ) dài hơn nhiều so với yêu cầu của tiêu chuẩn  EN 14387  - đồng nghĩa với thời gian sử dụng lâu hơn.
 Cụ thể :
        + thời gian có tác dụng bảo vệ với  Hydrogen Cyanide đạt 50 phút, dài hơn 2,5 lần (50/25 phút)
        + thời gian có tác dụng bảo vệ với Sulfur dioxide đạt 70 phút, dài gấp 3,5 lần ( 70/20 phút),
        + thời gian có tác dụng bảo vệ với Clorine đạt 50 phút, dài hơn 2,5 lần ( 50/20 phút)
        + thời gian có tác dụng bảo vệ với Hydrogen sulfide đạt 80 phút, dài  hơn 2 lần ( 80/40 phút).


PHIN LỌC 531  (120A1B1E1K1)
- Sử dụng với bán mặt nạ Unix1000 , Unix 1100 hoặc mặt nạ toàn phần Unix 5000 ( tên cũ MAG-2 ) và Unix 5100 
- Lọc loại hơi khí độc hữu cơ ; vô cơ ( như Cl2, H2S, HCN,...) ; SO2 , axit.và amoniac . 
- Sản phẩm đáp ứng và vượt tiêu chuẩn Châu Âu EN 14387


PHIN LỌC DOTeco P3RD
- Bộ lọc tương thích với UNIX 5000 và UNIX 5100 với bảo vệ P3 RD.
- Phin lọc được thiết kế để bảo vệ hệ hô hấp khi làm việc trong môi trường ô nhiễm các loại bụi ( sol khí ) khác nhau.
- Phin lọc sử dụng  hiệu quả khi nồng độ oxy tự do trong không khí vùng làm việc > 17% và nồng độ bụi ( sol khí ) đến 200 mg / m3 và cao hơn.


PHIN LỌC UNIX 213 P3RD
- Sử dụng với mặt nạ toàn cảnh UNIX 6100, UNIX 5000 và UNIX 5100 hoặc mặt nạ nửa mặt UNIX 1000 và UNIX 1100 để bảo vệ các cơ quan hô hấp khỏi sol khí (hơn 200 mg / m3) và khí và hơi hữu cơ có hại hiện diện trong không khí của khu vực làm việc
- Tấm lọc được gắn vào mặt kính bằng kết nối lưỡi lê. Tấm lọc RD của UNIX 213 P3 RD có hiệu suất cao, có thể tái sử dụng và chống bụi.
- Nhiệt độ môi trường từ -40 đến + 40 ° С. 
- Tiêu chuẩn: EN 143:2000 + A1: 2006

KHÁCH HÀNG NHẬN XÉT
Đánh giá trung bình
(0 nhận xét)
5
0%
4
0%
3
0%
2
0%
1
0%
Chọn xem đánh giá:

Đăng ký nhận tin Khuyến mãi

Đăng ký nhận tin khuyến mãi và các thông tin cập nhật mới nhất từ Siêu Chợ Cơ Khí

Chat